MYS-serien – MYW10 plasmasystem Möjliggör mycket flexibla processer för ytbehandling av wafer med hög genomströmning Med den snabba tillväxten av elektronikmonterings- och halvledarmarknaderna fortsätter industrins krav på produktionseffektivitet och tillförlitlighet att öka. Genom att eliminera väntetiderna förknippade med traditionell vakuumbaserad plasmabehandling, levererar MYS-seriens rengöringsutrustning betydligt högre genomströmning och förbättrad total avkastning, samtidigt som den säkerställer säker hantering av alla känsliga elektroniska komponenter.
CKD Technology har inte bara helt nya maskiner i lager, tillgängliga omedelbart.
Vi har också detaljerade uthyrningsverksamheter, redo att tillgodose dina specifika produktionsbehov samtidigt som du sänker din initiala investering avsevärt. Kontakta oss för mer information.
CKD har ett team av professionella ingenjörer, redo att leverera nyckelfärdiga tjänster.
För handel med begagnade maskiner, vänligen kontakta oss via Whatspp eller e-post.
MYW10 plasmasystem levererar en mycket flexibel, hög genomströmningsprocess för waferytbehandling.
• Atmosfäriskt tryck argon plasmasystem
• 100 mm bred inline plasmabatchbehandling; erbjuder 2–5 gånger högre effektivitet och över 30 % lägre driftskostnader jämfört med traditionella metoder
• 100 % neutral plasma; säker och skonsam mot känsliga elektroniska komponenter – inget plasmabombardement, statisk elektricitet, gnistor, ljusbågar, damm, hög värme, ytvågor eller UV-strålning, vilket säkerställer noll skada på produkten
• Mångsidiga kemiska processer: O2-process för att avlägsna organiska föroreningar; H2-process för att ta bort metalloxider och aktivera produktytor
• Orsakar ingen partikelkontamination eller förändringar i ytjämnhet på wafern
• Kompatibel med produktion av både wafer och tejpram, vilket möjliggör snabb växling mellan de två
• Uppfyller klass 10 renrums- och SEMI-standarder
Specifikationer
Grundläggande parametrar
MYW10
Strömkrav
AC 380V, 13kW, 20A, 50/60Hz
Lufttryckskrav
90psi (6bar)
Mått
2000 x 2800 x 2200 mm
Vikt
2200 kg
Certifieringsstandarder
SEMI S2/S6/S8
Positioneringsnoggrannhet
XY: ±20 um @ 3σ; Z: ±10 µm @ 3σ
XYZ-axel repeterbarhet
XY: ±10 um @ 3σ; Z: ±5 µm @ 3σ
Maximal hastighet
1000 mm/s (XY)
Acceleration
1,0 g
Drivsystem
AC servo
Specifikationer för arbetsplattform
Metod för laddning/avlastning
OHT + Lastport + Robotarm
Robotarm nyttolast
3 kg
Kompatibel waferstorlek
12 tum (300 mm)
Operativsystem för programvara
Windows 10
X/Y resor
400 mm / 500 mm
Z-axelresor
20 mm
Kommunikationsprotokoll
SECS/GEM
Driftområde
Plasmabehandlingsområde (B×D)
300×300 mm
Efterbehandlingsvattenkontaktvinkel (WCA)
WCA < 10° (kiselwafer)
Plasmabehandlingsmetod
O2-process för avlägsnande av organiska föroreningar H2-process för avlägsnande av metalloxid
Plasmasystemkrav
RF-ström
600W vid 27,12MHz
Huvudplasmagas
Argon
Processgas
O2, N2 eller H2
Gastillförseltryckintervall
40–100 psi (0,3–0,7 MPa)
Hot Tags: MYW10 kedjetillverkare, MYW10 kedjeleverantör, grossist för hållbar industriell kedje
Om du har några frågor om en offert eller ett samarbete får du gärna maila eller använda följande förfrågningsformulär. Vår säljare kommer att kontakta dig inom 24 timmar.
Vi använder cookies för att ge dig en bättre webbupplevelse, analysera webbplatstrafik och anpassa innehåll. Genom att använda denna sida godkänner du vår användning av cookies.Sekretesspolicy