CKD Technology har inte bara helt nya maskiner i lager, tillgängliga omedelbart.
Vi har också detaljerade uthyrningsverksamheter, redo att tillgodose dina specifika produktionsbehov samtidigt som du sänker din initiala investering avsevärt. Kontakta oss för mer information.
CKD har ett team av professionella ingenjörer, redo att leverera nyckelfärdiga tjänster.
För handel med begagnade maskiner, vänligen kontakta oss via Whatspp eller e-post.
------------------------------------------------------------------------------------
MYS10-serien är ett helautomatiserat, in-line plasmabehandlingssystem utvecklat för applikationer inom sektorer som halvledare, elektronik, SMT, optoelektronik och medicinsk teknik.
• Atmosfäriskt tryck argon plasmasystem
• 100 mm bred in-line satsvis plasmabehandling; erbjuder 2–5 gånger högre effektivitet och över 30 % lägre driftskostnader jämfört med traditionella metoder
• 100 % neutral plasma; säker och skonsam mot känsliga elektroniska komponenter – genererar inget plasmabombardement, statisk elektricitet, gnistor, ljusbågar, damm, hög värme, ytvågor eller UV-strålning, vilket säkerställer noll skador på produkterna
• Kompakt plasmaplattform som erbjuder hög flexibilitet och kompatibilitet
• Mångsidiga kemiska processer: O2-process för att avlägsna organiska föroreningar; H2-process för att ta bort metalloxider och aktivera produktytor
• Ingen generering av partiklar eller flytande föroreningar
| Grundläggande specifikationer | MYS10 |
| Strömkrav | AC 200–240V, 4,4kW, 20A, 50/60Hz |
| Lufttryckskrav | 90 psi (6 bar) |
| Mått | 790 x 1200 x 1880 mm |
| Vikt | 800 kg |
| Certifieringsstandarder | CE, SEMI S2 |
| Positioneringsnoggrannhet | XY: ±30 um @ 3σ; Z: ±10 µm @ 3σ |
| Repeterbarhet för XYZ-axeln | XY: ±15 um @ 3σ; Z: ±5 µm @ 3σ |
| Maximal hastighet | 1000 mm/s (XY) |
| Acceleration | 1,0 g |
| Drivsystem | AC servo |
| Specifikationer för arbetsplattform | |
| Spårtyp | Bälte |
| Räls lastkapacitet | 3 kg |
| Underlagets tjockleksområde (utan bärare) | 0,5–6 mm |
| Z-axelns rörelse | 100 mm |
| Max. komponenthöjd (översida) | 26 mm |
| Max. komponenthöjd (undersidan) | 23 mm |
| Kommunikationsprotokoll | SMEMA |
| Arbetsområde | |
| Plasmabehandlingsområde (B×D) | 350–475 mm |
| Vattenkontaktvinkel (WCA) efter plasmabehandling | WCA < 10° (kiselwafer) WCA < 20° (icke-metallisk) |
| Plasmabehandlingsmetod | O2-process för avlägsnande av organiska föroreningar H2-process för avlägsnande av metalloxid |
| Plasmasystemkrav | |
| RF-ström | 600W vid 27,12MHz |
| Huvudplasmagas | Argon |
| Processgas | O2, N2 eller H2 |
| Gastillförseltryckintervall | 40–100 psi (0,3–0,7 MPa) |
Adress
5:e våningen, byggnad 2, nr 182, Chang'an Xi'an Road, Chang'an Town, Dongguan, Guangdong-provinsen, Kina.
Tel
E-post
