CKD Technology har inte bara helt nya maskiner i lager, tillgängliga omedelbart.
Vi har också detaljerade uthyrningsverksamheter, redo att tillgodose dina specifika produktionsbehov samtidigt som du sänker din initiala investering avsevärt. Kontakta oss för mer information.
CKD har ett team av professionella ingenjörer, redo att leverera nyckelfärdiga tjänster.
För handel med begagnade maskiner, vänligen kontakta oss via Whatspp eller e-post.
------------------------------------------------------------------------------------
MYS10iL-serien är ett helautomatiserat, in-line plasmabehandlingssystem utvecklat för applikationer inom olika sektorer, inklusive halvledare, elektronik, SMT, optoelektronik och medicinsk teknik.
• Atmosfäriskt tryck argon plasmasystem
• 100 mm bred inline-batch plasmabehandling; erbjuder 2–5 gånger högre effektivitet och över 30 % lägre driftskostnader jämfört med traditionella metoder
• 100 % neutral plasma; säker och skonsam mot känsliga elektroniska komponenter – inget plasmabombardement, statisk elektricitet, gnistor, ljusbågar, damm, höga temperaturer, ytvågor eller UV-strålning
• Mångsidiga kemiska processer: O2-process för att avlägsna organiska föroreningar; H2-process för att ta bort metalloxider och aktivera produktytor
• Genererar inga partiklar eller vätskeföroreningar på produkten
| Grundläggande parametrar | MYS10iL |
| Strömkrav | AC 200~240V, 4,5kW, 20A, 50/60Hz |
| Lufttryckskrav | 90psi (6bar) |
| Mått | 1000 x 1500 x 1550 mm |
| Vikt | 1050 kg |
| Certifiering | CE |
| Positioneringsnoggrannhet | XY: ±50 µm @ 3σ; Z: ±10 µm @ 3σ |
| XYZ-axel repeterbarhet | XY: ±25 µm @ 3σ; Z: ±5 µm @ 3σ |
| Maximal hastighet | 1000 mm/s (XY) |
| Acceleration | 1,0 g |
| Drivsystem | AC servo |
| Arbetsplattformens parametrar | |
| Transportör typ | Bälte |
| Transportörens lastkapacitet | 3 kg |
| PCB-tjockleksområde (utan hållare) | 0,5–6 mm |
| Z-axelresor | 60 mm |
| Max. Komponenthöjd (övre sida) | 45 mm |
| Max. Komponenthöjd (undersida) | 23 mm |
| Kommunikationsprotokoll | SMEMA |
| Arbetsområde | |
| Plasmabehandlingsområde (B×D) | 550–760 mm |
| Vattenkontaktvinkel (WCA) efter plasmabehandling | WCA < 10° (kiselwafer) WCA < 20° (icke-metalliska material) |
| Plasmabehandlingsmetod | O2-process för avlägsnande av organiska föroreningar H2-process för avlägsnande av metalloxid |
| Krav på plasmasystemutrustning | |
| RF-effekt | 600W vid 27,12MHz |
| Huvudplasmagas | Argon |
| Processgas | O2, N2 eller H2 |
| Gastillförseltryckintervall | 40–100 psi (0,3–0,7 MPa) |
Adress
5:e våningen, byggnad 2, nr 182, Chang'an Xi'an Road, Chang'an Town, Dongguan, Guangdong-provinsen, Kina.
Tel
E-post
