ASYMTEK Select Coat SC-280 Film Coater

Översikt

SC-280 Select Coat®-filmbeläggningen (tillgänglig i icke-recirkulerande SC-280N och recirkulerande SC-280C-modeller) ger exakt, selektiv konform beläggning i automatiserade produktionsmiljöer. SC-280 producerar en kontrollerad, enhetlig beläggningsfilm med minimal översprutning – vilket praktiskt taget eliminerar behovet av maskering och minskar spill. Dessa applikatorer är designade för material med viskositeter under 100 centipoise och säkerställer effektiv materialanvändning och hög genomströmning och stödjer både lösningsmedelsbaserade och 100 % fasta material.

Precision och produktivitet i filmbeläggning

Höghastighets, icke-atomiserad filmbeläggning ger konsekvent täckning med varierande bredder, exakt kantdefinition och utmärkt materialutnyttjande.

Viktiga fördelar

● Överföringseffektivitet närmar sig 100 %, med materialutnyttjandet ökat med 30–50 %.

● Exakt, selektiv applicering med utmärkt kantdefinition.

● Höga beläggningshastigheter (upp till 750 mm/s eller 30 tum/s) för snabb genomströmning.

● Minskad översprutning, maskeringskrav och omarbetning jämfört med finfördelade beläggningsmetoder.

● Vätskebana i rostfritt stål, kompatibel med ett brett utbud av konforma beläggningskemier

● Valfritt tilttillbehör förbättrar åtkomsten till trånga utrymmen eller vinklade ytor

Idealiska applikationer

● Automatisk selektiv beläggning av specifika områden på PCB

● Applikationer där maskering är dyrt eller opraktiskt

● Produktionsmiljöer med medel till hög volym

● Konforma beläggningsmaterial med låg viskositet (viskositet liknande eller något högre än vatten)

Fördelar i ägandekostnad, avkastning och startprestanda

● Minskar den totala ägandekostnaden genom att minimera maskering, översprutning och materialspill.

● Ökar utbytet vid första passagen genom att applicera enhetliga filmer med skarp kantdefinition och strikt följsamhet till skyddszoner.

● Minskar efterbearbetning och skrot tack vare förutsägbar, enhetlig applicering.

● Ökar genomströmningen via höghastighetsfilmavsättning.

● Förbättrar startprestanda och tillförlitlighet genom en robust, icke-atomiserande design och processkontrollfunktioner.